法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-24
授权
授权
2014-03-19
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20120426
实质审查的生效
2014-01-08
公开
公开
机译: 使用偏置纵向场板,LDMOS晶体管和制造LDMOS晶体管的方法的LDMOS晶体管的漂移区域场控制。
机译: 使用偏置纵向场板,LDMOS晶体管和制造LDMOS晶体管的方法对LDMOS晶体管进行漂移区域场控制
机译: 在漂移区下方具有空腔的DMOS晶体管