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具有在漂移区下面的腔体的DMOS晶体管

摘要

一种在绝缘体上的硅(SOI)结构(102)上形成的横向DMOS晶体管(300)由于在所述SOI结构的体区(104)中形成的腔体(310)而具有较高的击穿电压。所述腔体露出位于所述DMOS晶体管的漂移区的垂直正下方的所述SOI结构的绝缘体层(106)的底表面的一部分。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    授权

    授权

  • 2014-03-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20120426

    实质审查的生效

  • 2014-01-08

    公开

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