首页> 中国专利> 清洁片、带清洁功能的搬送构件、基板处理装置的清洁方法及基板处理装置

清洁片、带清洁功能的搬送构件、基板处理装置的清洁方法及基板处理装置

摘要

本发明提供一种异物去除性能及搬送性能优异,且可效率尤其良好地去除具有规定粒径的异物的清洁片及带有清洁功能的搬送构件。本发明的清洁片具备实质上不具有粘合力的清洁层,该清洁层具有平均表面粗糙度Ra为0.10μm以上的凹凸形状部分,并且该清洁层对硅晶圆的镜面的以JIS-Z-0237规定的180°剥离粘合力为小于0.20N/10mm。本发明的带有清洁功能的搬送构件具备搬送构件、设置在该搬送构件的至少单面的本发明的清洁层。

著录项

  • 公开/公告号CN102413951B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-07-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201080018442.9

  • 发明设计人 宇圆田大介;

    申请日2010-04-13

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人雒运朴

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 09:42:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-07-06

    授权

    授权

  • 2012-06-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 1/00 申请日:20100413

    实质审查的生效

  • 2012-04-11

    公开

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