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适用于射频MEMS器件应用的横向互连低温圆片级封装结构

摘要

本实用新型涉及一种适用于射频MEMS器件应用的横向互连低温圆片级封装结构,包括有衬底,其特点是:衬底上方设置有盖板,盖板上设置有封装腔,盖板与衬底的接触端从上至下依次设置有粘附层、阻挡层、金属层、In层,衬底与盖板的接触端从下至上依次设置有粘附层、阻挡层、金属层,盖板与衬底的结合处的外围分布有密封组件,密封组件上连接有导通组件,衬底上分布有键合对准标记。由此,满足低温键合的需要,可实现低温封装,不会影响射频器件的正常使用。同时,通过密封组件与导通组件的相互配合,解决了引线横向互连的问题,封装还具有良好的机械强度与气密性。

著录项

  • 公开/公告号CN205773305U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2016-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州希美微纳系统有限公司;

    申请/专利号CN201620511313.8

  • 发明设计人 刘泽文;吴永强;

    申请日2016-05-31

  • 分类号

  • 代理机构北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘洪勋

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号西北区9栋402室

  • 入库时间 2022-08-22 01:55:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-07

    授权

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