法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-11-05
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/76 变更前: 变更后: 申请日:20001012
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2012-04-18
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/76 变更前: 变更后: 登记生效日:20120313 申请日:20001012
专利申请权、专利权的转移
2005-03-23
授权
授权
2002-12-25
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-11-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2001-05-02
公开
公开
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机译: 沟槽隔离结构,具有该沟槽隔离结构的半导体器件以及沟槽隔离方法
机译: 沟槽隔离结构,具有该沟槽隔离结构的半导体器件以及沟槽隔离方法
机译: 沟槽隔离结构,具有该沟槽隔离结构的半导体器件以及沟槽隔离方法