一种在NPN型硅台面高反压管生产中的扩镓工艺

摘要

一种在NPN型硅台面高反压管生产中的扩镓工艺，属于NPN型硅台面高反压管生产工艺。将抛光、氧化后的硅片置于扩散炉里进行开管扩镓，先采用低浓度镓掺杂，结深推移，后表面高浓度镓掺杂，两者在同一炉内连续完成以形成P型基区，在磷扩散再分布后再进行低温短时间补镓。镓杂质源由潮湿氢气携带。本发明工艺简单，弥补了已有工艺的不足，产品电参数有较大辐度提高，且一致性好。