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自钝化非平面结三族氮化物半导体器件及其制造方法

摘要

一种自钝化非平面结三族氮化物半导体器件,包括蓝宝石衬底并外延生长有三族氮化物缓冲层和n型三族氮化物负电极接触底层并淀积有电介质层;在淀积的电介质层上开有器件发光区窗口;在窗口区上再次外延生长有负电极接触顶层、防裂层、n型限制层、量子阱有源层、p型限制层、p型正电极接触层;在p型正电极接触层上制作透明正电极和正电极焊盘;在电介质层上第二次开负电极窗口,并在此窗口上制作负电极。

著录项

  • 公开/公告号CN1147010C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN00132745.3

  • 发明设计人 陆大成;王晓晖;姚文卿;刘祥林;

    申请日2000-11-16

  • 分类号H01L33/00;H01S5/323;H01S5/343;

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市912信箱

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-01-17

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2004-04-21

    授权

    授权

  • 2002-06-19

    公开

    公开

  • 2001-03-07

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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