包括光学校正布置的用于半导体光刻的投射曝光设备

摘要

本发明涉及一种光学校正布置，包括：至少一个光学元件(2)；至少一个辐射装置，其利用用于目标性地局部加热所述光学元件(2)的电磁加热辐射(7)，目标性地局部辐射所述光学元件(2)，其中，存在用于消散由所述至少一个辐射装置引入到所述光学元件(2)中的热能的装置。本发明还涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备，包括根据本发明的光学校正布置。