公开/公告号CN103858055A
专利类型发明专利
公开/公告日2014-06-11
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN201280049100.2
申请日2012-08-14
分类号G03F1/60(20120101);G03F1/00(20120101);G21K1/06(20060101);G06F1/24(20060101);G03F1/72(20120101);G03F7/20(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人邱军
地址 德国上科亨
入库时间 2023-12-17 00:20:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-01
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F1/60 申请公布日:20140611 申请日:20120814
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-10-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/60 申请日:20120814
实质审查的生效
2014-06-11
公开
公开
机译: EUV波长范围的反射光学元件,这种元件的制造和校正方法,包括这种元件的用于微光刻的投影透镜以及包括这种投影透镜的用于微光刻的投影曝光设备
机译: 用于euv波长范围的反射光学元件,这种元件的生成和校正方法,具有这种元件的微光刻投影物镜以及具有这种投影物镜的微光刻投影曝光系统
机译: EUV波长范围的反射镜,生产这种反射镜的方法,包括这种反射镜的微镜照相术的投影透镜以及包括这种投影镜的微镜照相术的投影曝光设备