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高迁移率功率金属氧化物半导体场效应晶体管

摘要

高迁移率的P-沟道功率金属氧化物半导体场效应晶体管。根据本发明的一种实施例,功率MOSFET被制作成使空穴在沿着(110)晶面或其等价面的反转/累积沟道中流动,当相对于源极施加负电压到栅极时,电流沿[110]方向或其等价方向。增强的空穴沟道迁移率导致导通电阻的沟道部分减小,因此,有利地减少了装置的全“导通”电阻。

著录项

  • 公开/公告号CN101336483B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-08-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 维西埃-硅化物公司;

    申请/专利号CN200680052188.8

  • 发明设计人 德瓦·帕塔纳亚克;K-I·陈;T-T·朝;

    申请日2006-12-22

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人杨梧

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:20:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-20

    授权

    授权

  • 2009-02-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-31

    公开

    公开

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