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半色调模版及其制造方法和设备

摘要

在半色调模版(1)的制造过程中,为了形成模版图案(3),在基本模版元件的预定模版图案区域(2)内雕刻一模版图案孔结构。另外,在基本模版元件上雕刻多个均匀一致的基准孔结构(4),每一基准孔结构(4)的渗透度均不同且位于模版图案区域(2)的外侧。在后续的印刷过程中,这些基准孔结构用于生成印刷图案,且其中一部分用于评估模版图案印刷的质量或色彩真实度。

著录项

  • 公开/公告号CN1115246C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2003-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 库夫施泰因模板技术股份公司;

    申请/专利号CN97104203.9

  • 发明设计人 海因茨·蒙格纳斯特;

    申请日1997-04-18

  • 分类号B41C1/14;B41N1/24;

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人邵伟

  • 地址 奥地利库夫施泰因

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-06-15

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2003-07-23

    授权

    授权

  • 1997-11-19

    公开

    公开

  • 1997-10-29

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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