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具有悬空源漏的隧穿场效应晶体管结构及其形成方法

摘要

本发明提出一种具有悬空源漏的隧穿场效应晶体管结构,包括:衬底;形成在所述衬底之上的多个凸起结构,其中,每两个凸起结构之间具有一定间隙;形成在所述每两个凸起结构之间,且与所述两个凸起结构顶部相连的悬空层,其中,所述凸起结构顶部的悬空层区域为沟道区,所述凸起结构两侧的悬空层区域分别为导电类型相反的源区和漏区;和形成在所述沟道区顶部的栅堆叠。根据本发明实施例的隧穿场效应晶体管,通过采用悬空的源漏结构可以有效地减小晶体管的源漏电容,提高器件的工作速度,并减少源漏和衬底之间的关态漏电。

著录项

  • 公开/公告号CN102354708B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN201110338222.0

  • 发明设计人 崔宁;梁仁荣;王敬;许军;

    申请日2011-10-31

  • 分类号

  • 代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张大威

  • 地址 100084 北京市海淀区100084-82信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:15:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-31

    授权

    授权

  • 2012-03-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20111031

    实质审查的生效

  • 2012-02-15

    公开

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