法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/72 授权公告日:20130717 终止日期:20190103 申请日:20060103
专利权的终止
2013-07-17
授权
授权
2013-07-17
授权
授权
2008-04-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-04-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-02-27
公开
公开
2008-02-27
公开
公开
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机译: 用于模拟二进制,衰减相移和交替相移掩模的无掩模光刻的系统,装置和方法
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