Worldwide Technology Development Division, Semiconductor Solutions Division, Toppan Printing Co., Ltd., 7-21-33 Nobidome, Niiza-shi, Saitama 352-8562, Japan;
Department of Research, New Functional Materials Research Center, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 28;
resolution enhancement technologies; alternating phase-shift mask; binary mask; immersion lithography; AIMS;
机译:时频二进制掩蔽错误的结构及其对语音清晰度的影响
机译:超声清洗导致交替相移掩模失效的动态有限元分析
机译:使用感应耦合等离子体(ICP)的极紫外蚀刻(EUVL)的交替相移掩模(PSM)结构的高度选择性干法蚀刻
机译:适用于45 nm及更高节点的交替相移掩模和二进制掩模:对掩模误差控制的影响
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:通过佩戴商业全面掩模与临时3D印刷过滤器连接的商业全面面罩作为个人防护设备替代在Covid-19大流行期间的替代方案手术表现不会产生负面影响:随机控制的交叉试验
机译:用于双重曝光,明场交替相移掩模版图的新图形二等分