首页> 中国专利> 氧化镓肖特基二极管制备方法及氧化镓肖特基二极管

氧化镓肖特基二极管制备方法及氧化镓肖特基二极管

摘要

本发明提供了一种氧化镓肖特基二极管制备方法及氧化镓肖特基二极管,该方法包括在衬底的上表面依次生长氧化镓外延层、氧化镍层、介质层;基于预设斜面图形对介质层进行刻蚀处理,直至露出氧化镍层,得到梯形状斜面结构;在氧化镍层的上表面和梯形状斜面结构的内侧制备阳极;在衬底的下表面制备阴极,通过上述方法制备的氧化镓肖特基二极管,其梯形状斜面结构可以调制器件沟道的电场分布,使耗尽区沿着场板方向向外扩展,显著增大了肖特基结边缘处的曲率,缓解了肖特基结边缘处的电场集中效应。采用该方法制备的氧化镓肖特基二极管,可有效降低峰值电场,降低器件漏电,提高器件击穿电压。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-20

    公开

    发明专利申请公布

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号