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公开/公告号CN114868254A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-08-05
原文格式PDF
申请/专利权人 埃克隆德创新公司;
申请/专利号CN202080073907.4
发明设计人 K-H·埃克隆德;L·韦斯特林;
申请日2020-08-27
分类号H01L29/06;H01L27/085;H01L29/10;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/739;H01L29/808;H01L29/78;
代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;
代理人程伟;王锦阳
地址 瑞典乌普萨拉
入库时间 2023-06-19 16:28:30
机译: 绝缘栅双极晶体管器件,包括一个串联的绝缘栅场效应晶体管,该晶体管串联一个具有经修正的漏极接触的结型场效应晶体管
机译: 一种半导体器件,包括与高压场效应晶体管串联的低压绝缘栅场效应晶体管
机译:提取增强型横向绝缘栅双极晶体管:一种超高速横向绝缘栅双极晶体管,优于横向双管扩散金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:电阻栅场效应晶体管:一种基于金属-绝缘体-金属-氧化物栅叠层的新型陡坡器件
机译:二维器件仿真分析不同栅长和栅轮廓的砷化镓金属半导体场效应晶体管的直流特性和小信号等效电路参数
机译:绝缘子对金属铁电绝缘体-半导体场效应晶体管(MEFISFET)-无损读出存储器件的存储窗口的影响
机译:ESFET:蒸发的传感场效应晶体管(CHEMFET,电解质绝缘体接口,半导体器件,P-H传感器,离子)。
机译:质子辐照对常断型AlGaN / GaN栅嵌入式金属-绝缘体-半导体异质结构场效应晶体管随时间变化的介电击穿特性的影响
机译:用于半导体器件的高介电常数栅绝缘膜和全硅化物金属栅电极的研究
机译:具有负微分电子迁移率的绝缘栅场效应晶体管理论