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包括与场效应晶体管串联的绝缘栅场效应晶体管的半导体器件

摘要

一种半导体器件,包括与场效应晶体管(2)FET串联的绝缘栅场效应晶体管(1),其中,FET(2)包括若干平行导电层(n1‑n5,p1‑p4),并且其中,第一导电类型的衬底(11)布置为半导体器件的基底,从而在两个晶体管(1,2)下方延伸,第二导电类型的第一层(n1)布置为在衬底(11)上方延伸,其中,在所述第一层(n1)的顶部布置有具有沟道的若干导电层,所述沟道由若干第一导电类型掺杂的外延层(n2‑n4)形成,所述第一导电类型掺杂的外延层(n2‑n4)的两侧具有第一导电类型的层(p1‑p4),其中,所述器件的最上层(p5)优选地比直接在表面下的若干平行导电层(p1‑p4,n1‑n4)实质上更厚,场效应晶体管(2)JFET在JFET的源极侧通过第二导电类型的深多晶硅沟槽DNPT(22)隔开,绝缘栅场效应晶体管(1)通过两侧的第一导电类型的深多晶硅沟槽DPPT(22,23)隔开,包括逻辑和模拟控制功能的另一隔开的区域(5)通过两侧的第一导电类型的深多晶硅沟槽DPPT(23,24)隔开。

著录项

  • 公开/公告号CN114868254A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃克隆德创新公司;

    申请/专利号CN202080073907.4

  • 发明设计人 K-H·埃克隆德;L·韦斯特林;

    申请日2020-08-27

  • 分类号H01L29/06;H01L27/085;H01L29/10;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/739;H01L29/808;H01L29/78;

  • 代理机构北京戈程知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟;王锦阳

  • 地址 瑞典乌普萨拉

  • 入库时间 2023-06-19 16:28:30

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