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公开/公告号CN114127893A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-01
原文格式PDF
申请/专利权人 索泰克公司;
申请/专利号CN202080049468.3
发明设计人 I·伯特兰;亚历克西斯·德劳因;I·于耶;E·布陶德;莫尔加纳·洛吉奥;
申请日2020-03-26
分类号H01L21/02(20060101);H01L21/762(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人赵鹏;徐敏刚
地址 法国伯尔宁
入库时间 2023-06-19 14:19:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-01
公开
国际专利申请公布
机译: 半导体元件的制造方法涉及在支撑体上形成存储层序列,该支撑体序列具有下部电介质层,电荷俘获层和上部电介质层。
机译: 在支撑体上制造结构化金属层的方法以及包括结构化金属层的支撑体
机译: 可移动的静电基板,可用于半导体制造中的晶圆,包括用于电荷存储的附加电容器结构,电荷结构扩展到支撑基板上的多个电极层上
机译:SiO_2隧穿和Si_3N_4 / HfO_2俘获层是通过低温工艺在全栅无结电荷俘获闪存器件上形成的
机译:电荷俘获闪存器件的俘获氮化物层中电荷俘获的光学电容-电压表征
机译:以单层和双层SiOx膜为有源层的MOS型结构中的俘获和去俘获电荷的影响
机译:在Si3N4俘获层上以纳米级图案制造的电荷俘获闪存器件
机译:在区域熔化的重结晶绝缘体上硅结构中制造的侧向取向Pin二极管的特性,该结构包含完整的粘弹性应力释放层。
机译:使用薄金层在熔融石英上大面积制造激光诱导的周期性表面结构
机译:有机空间电荷层中的俘获-俘获波动
机译:在包括非氮化镓柱的基板上制造氮化镓半导体层的方法,以及由此制造的氮化镓半导体结构。