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一种集成沟道二极管的碳化硅双槽MOSFET

摘要

本发明属于功率半导体技术领域,具体涉及一种集成沟道二极管的碳化硅双槽MOSFET。本发明的主要特征在于:第一:集成了沟道二极管,当器件处于续流工作模式时,沟道二极管导通实现续流功能,通过降低反向导通压降来有效抑制体二极管的导通,同时消除双极退化带来的影响;第二:通过源沟槽下方的P型区域调制电场,降低栅沟槽底部二氧化硅拐角处的电场尖峰,提高器件在阻断工作模式下的击穿电压和可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN113990923A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202111219760.8

  • 申请日2021-10-20

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L29/78(20060101);H01L27/07(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人葛启函

  • 地址 611731 四川省成都市高新西区西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 14:01:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-04

    授权

    发明专利权授予

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