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基于碳化硅平面型MOS结构的PIN二极管

摘要

本发明涉及一种基于碳化硅平面型MOS结构的PIN二极管。其包括半导体衬底,在所述半导体衬底上设置P型阱区、N型阱区以及低掺杂本征半导体区,P型阱区通过低掺杂本征半导体区与N型阱区间隔,低掺杂本征半导体区分别与P型阱区、N型阱区邻接;还包括正极区结构、负极区结构以及分裂栅区结构,正极区结构与与P型阱区适配连接,负极区结构与N型阱区适配,分裂栅区结构位于正极区结构与负极区结构之间;本发明能有效地降低PIN二极管的开关损耗,提高PIN二极管的开关速度,还可以实现碳化硅PIN二极管的自修复,进而提高PIN二极管的电学性能。

著录项

  • 公开/公告号CN112838129A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏东海半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202110025621.5

  • 申请日2021-01-08

  • 分类号H01L29/868(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构32104 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人殷红梅

  • 地址 214142 江苏省无锡市新吴区硕放街道中通东路88号

  • 入库时间 2023-06-19 11:05:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-11

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L29/868 专利申请号:2021100256215 变更事项:申请人 变更前:江苏东海半导体科技有限公司 变更后:江苏东海半导体股份有限公司 变更事项:地址 变更前:214142 江苏省无锡市新吴区硕放街道中通东路88号 变更后:214142 江苏省无锡市新吴区硕放街道中通东路88号

    著录事项变更

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