一种改善鳍式器件衬底图形不平坦对光刻聚焦影响的方法

摘要

一种改善鳍式器件衬底图形不平坦对光刻聚焦影响的方法，包括用硬掩膜层填平分布有密集和孤立的FIN鳍式器件衬底；根据工艺要求确定在硬掩膜层上依次形成抗反射层的厚度范围和光刻胶的厚度，选取抗反射层的厚度范围中的N个厚度值(T1、T2、…TN)；使用软件模拟出光刻胶和抗反射层在193纳米曝光波长下反射率最低时的最佳抗反射层厚度Ti；根据Ti值使用软件反推出反射率最大时对应的紫外光波长，使用这个波长紫外光代替可见光对鳍式衬底进行平坦度的侦测。因此，本发明避免了衬底FIN信息的反射所造成平坦度测量误侦测，消除了失焦影响；且根据光刻胶和抗反射层的平整度信息，获得了光刻最佳聚焦点，改善了光刻图形形貌和线宽差异，提高了器件的合格率。