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潘春荣; 刘云祥; 谢斌晖; 陈铭欣;
江西理工大学机电工程学院 江西赣州341000;
福建晶安光电有限公司 福建泉州362000;
图形化蓝宝石衬底; 光刻工艺优化; 生产效率;
机译:用于亚微米级大面积接触光刻的软PDMS /金属膜光刻胶及其在图案化蓝宝石衬底上的应用
机译:用于在蓝宝石衬底上形成亚微米图案的双光刻胶互补光刻技术
机译:应用于蓝宝石衬底的双层光刻胶互补光刻技术,用于产生亚微米图案
机译:介电CVD膜的工艺优化,用于28nm工艺下的图形化相关缺陷减少
机译:用于提高LED发射器和太阳能电池包装的性能和降低成本的材料和工艺优化
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:基于DMD的无掩模灰度光刻系统的3D光刻工艺优化方法
机译:用于高亮度LED制造的低成本光刻工具。 2012年最终报告。
机译:图形化的编码方法,图形化的解码装置的方法,图形化解码装置的图形化,图形化,图形化的编码程序,以及图形化的解密程序
机译:抗蚀剂图案形成工艺优化装置,抗蚀剂图案形成工艺优化方法和抗蚀剂图案形成工艺优化程序
机译:用固态紫外激光刻划蓝宝石衬底
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