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侯想; 刘熠新; 钟梦洁; 林赛; 刘杨; 罗荣煌; 罗学涛; 张飒;
福建中晶科技有限公司 龙岩 364101;
厦门大学材料学院 厦门 361005;
厦门大学福建省特种先进材料重点实验室 厦门 361005;
图形化蓝宝石衬底(PSS); 三氟甲烷; 刻蚀选择比; 正交试验;
机译:沉积温度和热退火对半导体器件干法刻蚀工艺中a-C:H膜干法刻蚀速率的影响
机译:使用超高真空原位干法刻蚀和沉积处理系统制造的具有高质量干法刻蚀镜的AlGaAs激光器
机译:全面有效性管理的图形化分析:支持运维绩效评估的图形化方法
机译:西格玛形状的硅凹槽的干法刻蚀工艺研究
机译:激光辅助干法刻蚀III氮化物宽带隙半导体材料。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:使用图形化的Stroop任务,图形化的隐式联想测验和选择反应时间任务来测量性兴趣
机译:转子热原子和分子半导体干法刻蚀机理
机译:图形化的编码方法,图形化的解码装置的方法,图形化解码装置的图形化,图形化,图形化的编码程序,以及图形化的解密程序
机译:半导体器件形成的蓝宝石衬底,制造半导体器件形成的蓝宝石衬底的方法,以及传输半导体器件的方法
机译:制备涂覆有半导体材料的蓝宝石衬底的方法,通过该方法可获得的涂覆的蓝宝石衬底以及这种衬底在发光二极管中的用途
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