机译:TMAH溶液中氧浓度改善Sigma形湿蚀工艺的研究
机译:通过优化干法刻蚀工艺来最小化栅极AlGaN / GaN HEMT的泄漏电流
机译:通过优化干蚀刻工艺,将嵌入式栅极AIGaN / GaN HEMT的漏电流降至最低
机译:Σ形Si凹槽干蚀刻工艺研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:经皮内镜下腰椎间盘切除术侧隐窝狭窄上肢关节突尖或根部的成形术:多中心回顾性对照研究为期两年
机译:通过ICP-RIE氧化和湿法刻蚀可控制刻蚀速率的AlGaN / GaN的精密凹槽
机译:使用原位过程控制,用于科学制造的化合物半导体的敏捷干蚀刻