用于高NA极紫外光刻物镜的掩模结构

摘要

本发明涉及一种用于高NA极紫外光刻物镜的掩模结构，包括：掩模基底、多层膜、帽层和吸收层；其中所述多层膜由高折射率材料和低折射率材料在所述基底上交替沉积而成；所述吸收层的上表面处于所述帽层表面以下一定深度处。本发明的用于高NA极紫外光刻物镜的掩模结构，能够针对特定光刻系统和曝光线宽完全消除掩模阴影效应，进而完全消除曝光图案的横向-纵向特征尺寸偏差。