EUV lithography; lithographic objective; grouping design; six-mirror system; high-NA;
机译:设计11纳米极紫外光刻节点的投影物镜
机译:高分辨率光刻胶的设计:使用现代NMR技术评估光刻性能
机译:高分辨率光刻胶设计:使用现代NMR技术评估光刻性能
机译:通过构建鞍点设计平版印刷物镜
机译:威胁环境对西方军民关系模式的影响(2001年9月11日至2006年9月11日)。
机译:11个国家/地区的邻里环境和客观测量的体育活动
机译:设计高分辨率光刻胶:使用现代核磁共振技术评估光刻性能
机译:设计用于下一代生物传感器和免疫测定的光刻图案化磷脂双层阵列