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用于集成电路设计优化和良率改进的方法

摘要

本发明公开用于集成电路设计优化和良率改进的方法。根据本发明的一种对集成电路设计进行优化的方法,包括:对集成电路设计进行关键区域分析;以及基于关键区域分析结果对集成电路设计进行布局优化。布局优化可包括:连线展开和/或连线加宽。

著录项

  • 公开/公告号CN105335536A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-02-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410325272.9

  • 发明设计人 范忠;吕冬琴;

    申请日2014-07-09

  • 分类号G06F17/50(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人张欣

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2023-12-18 14:11:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-03-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20140709

    实质审查的生效

  • 2016-02-17

    公开

    公开

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