声明
摘要
1 引言
2 背景知识介绍
2.1 VDDmin测试及数据收集方法
2.2 造成晶圆厂工艺波动的因素
2.2.1 沟道尺寸偏移
2.2.2 随机掺杂波动
2.2.3 栅氧化层厚度的波动
2.2.4 线边缘和线宽的粗糙度
2.2.5 载流子波动
2.3 工艺波动的类型
2.3.1 片间波动
2.3.2 片内波动
2.3.3 互连线波动
2.4 蒙特卡洛方法原理及应用
3 VDDmin测试的意义
3.1 传统的IDDQ测试
3.2 VDDmin在最新工艺产品工程中的应用
4 VDDmin与晶圆厂工艺关键参数之间的联系
4.1 工艺角与设计容限试验
4.2 挑选用以VDDmin建模的工艺关键参数
4.3 建立VDDmin与IsatN/P之间的联系
5 应用蒙特卡洛方法模拟VDDmin的分布
5.1 用蒙特卡洛方法随机生成数据的步骤
5.2 利用Excel实现自动蒙特卡洛采样模拟
5.3 针对VDDmin分布的数据分析及基于VDDmin分布的良率估算
5.4 模拟晶圆厂工艺目标值调整及工艺波动控制水平对良率的影响
6 结论
参考文献
致谢