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用于改良在非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N衬底上生长的(Ga,Al,In,B)N激光二极管的镜面刻面劈裂产率的结构

摘要

一种用于改良在非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N衬底上生长的(Ga,Al,In,B)N激光二极管的镜面刻面劈裂产率的结构。所述结构包含非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N激光二极管,所述激光二极管包括波导核心,其在不存在p型掺杂的含铝波导覆盖层的情况下为所述装置的操作提供足够光限制;以及一个或多个n型掺杂的含铝层,其可用于帮助沿特定晶面的刻面劈裂。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-02-04

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/02 申请公布日:20120523 申请日:20100709

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-08-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/02 申请日:20100709

    实质审查的生效

  • 2012-05-23

    公开

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