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高取向性多晶碘化汞厚膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种利用磁力搅拌激励的垂直沉积技术生长多晶碘化汞薄膜,生长出来的多晶碘化汞薄膜作为晶种层,通过真空蒸发物理气相沉积法在晶种层上沉积生长高取向性多晶碘化汞厚膜的制备方法。生长出来的高取向性多晶碘化汞厚膜特别适合于X射线、Gama射线多晶碘化汞厚膜探测器的制备,本发明属于半导体厚膜制备技术领域。本发明以2,7-二溴-4-羟汞基荧光红双钠盐(又名汞溴红)、碘酊为先驱反应溶液,无水酒精为溶剂,制得了多晶碘化汞薄膜。以碘化汞薄膜作为晶种层,再通过真空蒸发物理气象沉积法沉积生长多晶碘化汞厚膜,最终在衬底基片上获得柱状晶粒的高取向性多晶碘化汞厚膜。

著录项

  • 公开/公告号CN102337588A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN201110336271.0

  • 申请日2011-10-31

  • 分类号

  • 代理机构上海上大专利事务所(普通合伙);

  • 代理人顾勇华

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2023-12-18 04:21:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-16

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C30B28/12 申请公布日:20120201 申请日:20111031

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-03-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B28/12 申请日:20111031

    实质审查的生效

  • 2012-02-01

    公开

    公开

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