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重掺杂P型衬底上生长高阻N型外延层的方法

摘要

本发明提供一种重掺杂P型衬底上生长高阻N型外延层的方法,包括步骤:A.提供重掺杂P型衬底;B.在重掺杂P型衬底上生长低阻N型外延层;C.在低阻N型外延层上生长重掺杂N型界面层,在此过程中采用高温烘烤/低温变速赶气减少生长过程中产生的P型杂质,同时在赶气过程中通入N型掺杂气体;D.在重掺杂N型界面层上生长高阻N型外延层。本发明的高阻N型外延层厚度均匀,在距边10mm以内的电阻率稳定可控,获得了理想的扩展电阻图形(SRP)曲线,产品成品率达99%以上,能够在8寸线实行量产。

著录项

  • 公开/公告号CN102324382A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海先进半导体制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201110320451.X

  • 发明设计人 王海红;史超;何瑞;徐雷军;梁博;

    申请日2011-10-20

  • 分类号H01L21/20;H01L21/329;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陈亮

  • 地址 200233 上海市徐汇区虹漕路385号

  • 入库时间 2023-12-18 04:12:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-02-12

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/20 申请公布日:20120118 申请日:20111020

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-03-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/20 申请日:20111020

    实质审查的生效

  • 2012-01-18

    公开

    公开

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