一种高压FRD的截断型深槽结构及高压FRD的制作方法

摘要

一种高压FRD的截断型深槽结构及高压FRD的制作方法，所述高压FRD的截断型深槽结构，它包括一带有PN结的FRD二极管，在其表面淀积有一层氧化层，在其PN结的两端光刻并深槽DRIE刻蚀然后淀积有二氧化硅；所述的深槽深度远大于结深，它的深度至少与击穿时平面结耗尽区宽度相当；所述的深槽内侧生长有至少一层氧化层；所述的制作方法是：第一制作完成FRD二极管的PN结；第二在其表面淀积一层氧化层作为深槽刻蚀的阻挡层，然后光刻并深槽DRIE刻蚀用作终端的深槽；第三为了消除深槽刻蚀的缺陷，在深槽内侧生长一层氧化层，然后淀积二氧化硅把深槽完全填满；第四继续FRD二极管后续的制造工艺；它具有提高了FRD器件的击穿电压，使击穿电压接近平面结的击穿电压，降低了FRD器件的面积，降低了成本等特点。