Georgia State University;
Chemical vapor deposition; Epilayers; Far-IR reflectance spectroscopy; Indium nitride; Raman spectroscopy; X-ray diffraction; Zinc germanium phosphide;
机译:反应堆压力对高压化学气相沉积生长的InN外延层电学和结构性能的影响
机译:金属有机化学气相沉积法生长n型单晶ZnO外延层的太赫兹介电响应和光导率
机译:金属有机化学气相沉积法生长n型单晶ZnO外延层的太赫兹介电响应和光导率
机译:冷壁化学气相沉积4H-SIC脱晶仪深度水平的光学电容瞬态光谱研究
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的氮化铟,氮化铟镓合金的光学,结构和传输性能。
机译:通过金属有机化学气相沉积在氮化蓝宝石上生长的高质量AlN外延层
机译:GaN模板对通过有机金属化学气相沉积(MOCVD)在铟非常富集的条件下生长到AlInN外延层中的意想不到的Ga原子的贡献