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Contribution of GaN template to the unexpected Ga atoms incorporated into AlInN epilayers grown under an indium-very-rich condition by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD)

机译:GaN模板对通过有机金属化学气相沉积(MOCVD)在铟非常富集的条件下生长到AlInN外延层中的意想不到的Ga原子的贡献

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