确定衬底中的缺陷的方法和光刻工艺中曝光衬底的设备

摘要

本发明公开一种确定衬底中的缺陷的方法和在光刻工艺中曝光衬底的设备。该方法包括：用传感器扫描衬底的扫描范围，该传感器将辐射束投影到衬底上；沿扫描范围测量从不同的衬底区域反射的辐射的强度的一部份；确定经过所扫描范围的被测量部份的变化量；由该变化量确定在衬底中是否存在任何缺陷。