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布图的检查装置、检查方法以及半导体装置的制造方法

摘要

本发明提供一种即使在检查对象的尺寸在检查光的波长以下,也能够进行高分辨度检查的布图检查装置、布图检查方法以及半导体装置的制造方法。检查装置具有用来通过透过光进行检查的第1投光系统、用来通过反射光进行检查的第2投光系统中的至少一个,用来通过对在检查对象上的布图图像进行摄像的检查光学系统,用来承载并移动上述检查对象的台子,用来增强在上述布图上衍射的光的衍射光控制单元。

著录项

  • 公开/公告号CN101109711A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-01-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN200710142159.7

  • 发明设计人 井上广;渡边智英;吉川绫司;

    申请日2007-06-29

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人吴丽丽

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 19:41:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-07-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01N21/88 公开日:20080123 申请日:20070629

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-03-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-23

    公开

    公开

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