用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统

摘要

一种用于确定光刻系统中的空间光调制器(SLM)像素的状态的方法和系统，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案。所述方法包括：确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及然后对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。