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System and Method for Maskless Lithography Using and Array of Sources and an Array of Focusing Elements.

机译：使用和无源光源阵列以及聚焦元件阵列的无掩模光刻系统和方法。

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A maskless lithography system is disclosed that includes an array of focusing elements, each of which focuses an energy beam from an array of sources into an array of focal spots in order to create a permanent pattern on an adjacent substrate.

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作者
Gil, D.; Mnon, R.; Carter, D.; Smith, H. I.; Barbastathis, G.;
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作者单位

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年度 2005
页码 1-6
总页数 6
原文格式 PDF
正文语种
中图分类
关键词
Patent applications; Maskless lithography; Arrays; Focusing elements; Energy beams; Substrates; Focal spots;

机译：专利申请;无掩模光刻;阵列;聚焦元件;能量束;基板;焦点;

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