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双轴压缩应变下的硅中的电子和空穴迁移率的增强

摘要

本发明提供了一种具有增强的电子和空穴迁移率的半导体材料,该材料包括在双轴压缩应变下的具有晶体取向的含硅层。术语"双轴压缩应变"在此处用来描述由纵向压缩应力和横向应力产生的净应力,此横向应力在半导体材料制造过程中引入含硅层上。本发明的其它方面涉及形成本发明的半导体材料的方法。本发明的方法包括提供含硅层;和在所述含硅层中产生双轴应变。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/02 授权公告日:20090923 终止日期:20181215 申请日:20041215

    专利权的终止

  • 2017-12-15

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L29/02 登记生效日:20171128 变更前: 变更后: 申请日:20041215

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-09-23

    授权

    授权

  • 2007-09-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-07-18

    公开

    公开

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