法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-09-30
专利权的视为放弃
专利权的视为放弃
2007-01-17
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-11-22
公开
公开
机译: 形成抗蚀剂图案的方法,形成图案化的薄膜的方法,制造微器件的方法,制造薄膜磁头的方法,
机译: 形成掩模图案的方法,形成薄膜图案的方法,制造磁阻元件的方法以及制造薄膜磁头的方法
机译: 形成图案的方法,制造微器件的方法,制造薄膜磁头的方法,制造磁头滑块的方法,制造磁头器件的方法以及制造磁记录和再制造的方法