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形成电镀图案的方法和制造薄膜磁头的方法

摘要

形成电镀图案的方法和制造薄膜磁头的方法。该形成电镀图案的方法能够确保进行了亲水性处理的抗蚀剂图案变窄和微型化,而不使该抗蚀剂图案变宽和变形。该方法包括以下步骤:使用抗蚀剂覆盖电镀晶种层的表面;对该抗蚀剂进行曝光和显影,以形成具有凹入部分的抗蚀剂图案;对该抗蚀剂图案进行亲水性处理;通过电镀在该抗蚀剂图案的凹入部分中淀积金属;去除该抗蚀剂图案;以及去除该电镀晶种层的暴露部分。该电镀晶种层是由金属制成的挥发性金属层,该挥发性金属层在该亲水性处理过程中被氧化,并且构成该挥发性金属层的金属的氧化物具有挥发性。

著录项

  • 公开/公告号CN1866358A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通株式会社;

    申请/专利号CN200510102517.2

  • 发明设计人 三宅裕子;

    申请日2005-09-08

  • 分类号G11B5/31;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-12-17 17:55:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-09-30

    专利权的视为放弃

    专利权的视为放弃

  • 2007-01-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-11-22

    公开

    公开

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