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公开/公告号CN1832202A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-09-13
原文格式PDF
申请/专利权人 财团法人SEOUL大学校产学协力财团;三星电子株式会社;
申请/专利号CN200610004708.X
发明设计人 沈载星;朴炳国;李钟德;金桢雨;
申请日2006-01-27
分类号H01L29/792;H01L27/115;H01L21/336;H01L21/8247;G11C16/02;
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人林宇清
地址 韩国首尔
入库时间 2023-12-17 17:38:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-05-12
授权
2008-03-19
实质审查的生效
2006-09-13
公开
机译: 具有多层掺杂的电荷陷阱存储单元,使用该存储单元的存储阵列及其操作方法
机译: 具有多掺杂层的电荷陷阱存储单元,使用该存储单元的闪存阵列及其操作方法
机译: 使用具有多掺杂层的电荷陷阱存储单元的NOR闪存阵列及其操作方法
机译:电荷陷阱闪存存储单元中亚5 nm Ge掺杂氮化硅层的特性改善
机译:电荷陷阱层中的界面对基于ZrO_2 / Al_2O_3纳米叠层的电荷陷阱闪存存储单元存储特性的影响
机译:使用具有超薄介电掺杂物扩散阻挡层的门控二极管结构的新型陷阱-氮化物存储非易失性存储单元
机译:具有离散陷阱的双位存储单元中局部电荷的静电效应
机译:电子陷阱存储单元的设计方法。
机译:基于人工陷阱介导的电荷存储和释放的单层光学存储单元
机译:具有超薄氧化铬捕获层的氧化锌电荷捕获存储单元
机译:具有旋转延迟的存储单元的计算机系统模拟器