脉冲离子束辅助淀积

摘要

本发明是一种用于在基片上淀积薄膜和涂层的高速商业规模的装置。PIBAD脉冲离子束辅助淀积过程不仅允许淀积，而且还充许薄膜和涂层的特殊方式的预淀积处理，这包括退火、熔化和再生长，冲击波处理和高压等离子体再淀积，所有这些都能改变最终产品的机械、粘结和腐蚀特性。