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PULSED ION BEAM ASSISTED DEPOSITION

机译:脉冲离子束辅助沉积

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号IL116876A

    专利类型

  • 公开/公告日1998-11-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDIA CORPORATION;

    申请/专利号IL116876

  • 发明设计人

    申请日1996-01-23

  • 分类号6H01JA;

  • 国家 IL

  • 入库时间 2022-08-22 02:57:42

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