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中介层电路、基材上覆晶圆上覆晶片电路与利用介面电路的方法

摘要

一种中介层电路、基材上覆晶圆上覆晶片电路与利用介面电路的方法。中介层电路包含基材及设置在基材的顶部上的介电层。中介层电路亦包含二层或以上的连接层,其是包含设置在介电层的不同深度中的第一连接层及第二连接层。中介层电路包含保险丝,其是设置在第一连接层内。第一连接层耦合至第一电源节点,且第二连接层耦合至第一接地节点。中介层电路还包含与保险丝串联的第一电容,且是连接在第一连接层及第二连接层之间。中介层电路亦包含在介电层的顶部上的第一微凸块、第二微凸块及第三微凸块,以使保险丝是耦合至第一微凸块及第二微凸块之间,而第一电容是耦合至第二微凸块及第三微凸块之间。

著录项

  • 公开/公告号CN111128955A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201911063293.7

  • 发明设计人 林亮臣;张仕承;

    申请日2019-10-31

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

  • 入库时间 2023-12-17 11:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/522 申请日:20191031

    实质审查的生效

  • 2020-05-08

    公开

    公开

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