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一种晶圆热处理工艺以及晶圆双面电镀工艺

摘要

本发明公开了一种晶圆热处理工艺以及晶圆双面电镀工艺,属于晶圆加工领域。一种晶圆热处理工艺,包括以下步骤:将所述晶圆一端面与玻璃载板键合在一起;研磨所述晶圆的另一端面,使得所述晶圆薄化;蚀刻所述晶圆中部,使得所述晶圆的形状呈中央薄、边缘厚;对所述晶圆的另一端面依次进行黄光与离子注入工艺;通过雷射或电阻加热或紫外光照射解键合所述玻璃载板,清洗去除键合剂;进行热处理工艺,形成合金的欧姆接触电阻。与现有技术相比,本申请的晶圆双面电镀与热处理工艺,能够有效避免晶圆在热处理工艺或双面电镀工艺中的弯曲变形。

著录项

  • 公开/公告号CN111446165A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 绍兴同芯成集成电路有限公司;

    申请/专利号CN202010300797.2

  • 发明设计人 严立巍;陈政勋;李景贤;

    申请日2020-04-16

  • 分类号

  • 代理机构北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王依

  • 地址 312000 浙江省绍兴市越城区银桥路326号(原永和酒业)1幢1楼113室

  • 入库时间 2023-12-17 10:54:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/306 申请日:20200416

    实质审查的生效

  • 2020-07-24

    公开

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