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选择外延生长应变测量方法及量子阱激光器制作方法及量子阱激光器

摘要

本发明公开了一种选择外延生长应变测量方法,包括如下步骤:1)在衬底上形成掩膜,在带有掩膜的衬底上选择外延生长材料;2)将选择外延生长区域以外的所有外延材料去除,将掩膜材料去除,仅仅剩下选择外延生长区域的材料;3)测量衬底上材料的应变,测量的应变为选择外延区域材料的应变。同时,提出一种利用该方法的选择外延生长量子阱激光器制作方法以及量子阱激光器。该方法能精确测量选择外延导致的应变的变化,从而为选择外延生长材料的表征提供一种低成本且精确的方法。且制作的量子阱激光器的性能良好。

著录项

  • 公开/公告号CN110854679A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉云岭光电有限公司;

    申请/专利号CN201910941392.4

  • 发明设计人 陈志标;

    申请日2019-09-30

  • 分类号H01S5/34(20060101);G01B15/06(20060101);

  • 代理机构11228 北京汇泽知识产权代理有限公司;

  • 代理人代婵

  • 地址 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区华中科技大学产业园正源光子产业园内2幢1层1-5

  • 入库时间 2023-12-17 07:17:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/34 申请日:20190930

    实质审查的生效

  • 2020-02-28

    公开

    公开

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