处理掩模布置的方法、用于掩模布置的光学检查的参考基板和真空沉积系统

摘要

提供了一种用于掩模布置的光学检查的方法。所述方法包括将掩模布置接收在设有参考基板的检查腔室中。此外，所述方法包括将所述掩模布置相对于所述参考基板对准。另外，所述方法包括用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位，以获得关于所述掩模布置的信息数据。