首页> 中国专利> 一种具有槽栅调制结构的半极性GaN基增强型高电子迁移率晶体管

一种具有槽栅调制结构的半极性GaN基增强型高电子迁移率晶体管

摘要

本发明公开了一种具有槽栅调制结构的半极性GaN基增强型高电子迁移率晶体管(HEMT),由下至上包括:衬底、AlN成核层、半极性Al

著录项

  • 公开/公告号CN110299408A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东南大学;

    申请/专利号CN201910659781.8

  • 发明设计人 张雄;范艾杰;崔一平;

    申请日2019-07-22

  • 分类号

  • 代理机构南京众联专利代理有限公司;

  • 代理人张伟

  • 地址 210096 江苏省南京市玄武区四牌楼2号

  • 入库时间 2024-02-19 13:36:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/778 申请日:20190722

    实质审查的生效

  • 2019-10-01

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号