公开/公告号CN109917615A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-06-21
原文格式PDF
申请/专利权人 联华电子股份有限公司;
申请/专利号CN201711318482.5
申请日2017-12-12
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人陈小雯
地址 中国台湾新竹市
入库时间 2024-02-19 11:23:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-09-27
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20171212
实质审查的生效
2019-06-21
公开
公开
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,制造曝光掩模的方法以及光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
机译: 曝光掩模,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正方法,制造半导体器件的方法以及光学邻近效应校正程序