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在纳米图形化蓝宝石衬底上外延生长氮化铝的方法

摘要

本发明提供一种在纳米图形化蓝宝石衬底上外延生长氮化铝的方法,包括:在纳米图形化蓝宝石衬底的表面沉积石墨烯层;对所述石墨烯层进行等离子体处理;以及在经处理后的所述石墨烯层上外延生长氮化铝层。本发明利用石墨烯纳米图形化蓝宝石衬底作为氮化铝外延生长的衬底,并对石墨烯层进行等离子体处理,借助于石墨烯作为缓冲层,利用范德华外延的性质,可降低晶格失配和热失配导致的高应力与高位错密度,从而有效提升外延氮化铝薄膜的质量。

著录项

  • 公开/公告号CN109119327A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京石墨烯研究院;北京大学;

    申请/专利号CN201810973406.6

  • 发明设计人 刘忠范;陈召龙;高鹏;

    申请日2018-08-24

  • 分类号

  • 代理机构北京律智知识产权代理有限公司;

  • 代理人董天宝

  • 地址 100095 北京市海淀区苏家坨镇翠湖南路13号院中关村翠湖科技园2号楼

  • 入库时间 2024-02-19 07:11:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20180824

    实质审查的生效

  • 2019-01-01

    公开

    公开

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