首页> 外文OA文献 >Inverse Lithography Technology (ILT) Enabled Source Mask Optimization (SMO)

【2h】

Inverse Lithography Technology (ILT) Enabled Source Mask Optimization (SMO)

机译：反向光刻技术（ILT）启用源掩模优化（smO）

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Linyong Pang; Guangming Xiao; Vikram Tolani; Peter Hu; Tom Cecil; Thuc Dam; Ho Baik; Bob Gleason;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2016
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Robust pixel-based source and mask optimization for inverse lithography [J] . Li S., Wang X., Bu Y. Optics & Laser Technology . 2013,第Null期

机译：针对反光刻的基于像素的稳健源和掩模优化
2. Binary mask optimization for inverse lithography with partially coherent illumination [J] . Xu Ma, Gonzalo Arce Journal of the Optical Society of America, A. Optics, image science, and vision . 2008,第12期

机译：具有部分相干照明的逆光刻的二进制掩模优化
3. Fast pixel-based mask optimization for inverse lithography [J] . Yuri Granik Journal of Microlithography, Microfabrication, and Microsystems. (JM3) . 2006,第4期

机译：基于像素的快速掩模优化以实现反光刻
4. Inverse Lithography Technology (ILT) Enabled Source Mask Optimization (SMO) [C] . Linyong Pang, Guangming Xiao, Vikram Tolani, ISTC/CSTIC 2009 (CISTC) . 2009

机译：启用反光刻技术（ILT）的源掩模优化（SMO）
5. Line search based inverse lithography technique for mask design [D] . Zhao, Xin 2012

机译：基于线路搜索的掩模设计的逆光刻技术
6. Does the revised intubating laryngeal tube (ILTS-D2) perform better than the intubating laryngeal mask (Fastrach)? – a randomised simulation research study [O] . Thomas Ott, Katharina Tschöpe, Gerrit Toenges, 2020

机译：经修订的插管式喉管（ILTS-D2）是否比插管式喉罩（Fastrach）更好？ –随机模拟研究
7. Optimization from Design Rules, Source and Mask, to Full Chip with a Single Computational Lithography Framework: Level-Set-Methods- based Inverse Lithography Technology (ILT) [O] . Linyong Pang, Danping Peng, Peter Hu, 2014

机译：利用单一计算光刻框架优化从设计规则，源和掩模到全芯片：基于水平集方法的逆光刻技术（ILT）

Inverse Lithography Technology (ILT) Enabled Source Mask Optimization (SMO)

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅