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NON-INTERCEPTING EMITTANCE MEASUREMENTS BY MEANS OFudOPTICAL DIFFRACTION RADIATION INTERFERENCE FOR HIGHudBRIGHTNESS ELECTRON BEAM

机译:通过 ud方法进行的非截距辐射测量高 ud的光学衍射辐射干扰亮度电子束

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摘要

Conventional intercepting transverse electron beam diagnostics,ude.g. based on Optical Transition Radiationud(OTR), cannot tolerate high power beams without significantudmechanical damages of the diagnostics device. OpticaludDiffraction Radiation (ODR) is an excellent candidateudfor the measurements of the transverse phase space parametersudin a non-interceptingway. One of themain limitationsudof this method is the low signal to noise ratio, mainly dueudto the unavoidable synchrotron radiation background. Thisudproblem can be overcome by using ODRI (Optical DiffractionudRadiation Interference). In this case the beam goesudthrough two slits opened in metallic foils, placed at a distanceudshorter than the radiation formation zone. Due toudthe shielding effect of the first screen a nearly backgroundfreeudODR interference pattern can be measured allowingudthe determination of the beam size and the angular divergence.udHere we report the preliminary result of the firstudmeasurements of the beam emittance using ODRI carriedudout at FLASH (DESY, Germany). Our result demonstrateudthe unique potential of this technique.
机译:常规拦截式横向电子束诊断, ude.g。基于光跃变辐射(udr) ud(OTR)的系统,如果不对诊断设备造成明显的 udmechanical损坏,则无法承受高功率光束。光学非衍射辐射(ODR)是非相干测量横向相空间参数的最佳候选 ud。该方法的主要局限性之一是信噪比低,这主要是由于不可避免的同步加速器辐射背景所致。此 udproblem问题可以通过使用ODRI(光学衍射 udRadiation干涉)来解决。在这种情况下,光束穿过两个开口,该两个开口在金属箔中开口,其距离比辐射形成区短。由于第一个屏幕的屏蔽效果,可以测量几乎无背景的 udODR干涉图样,从而可以确定光束大小和角度发散。 ud我们在此报告了使用辐射率的第一个初步测量的初步结果ODRI在闪存(德国,DESY)上 udout。我们的结果证明了该技术的独特潜力。

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